ZEISS、新型FIB-SEM「Crossbeam 750」を発表 ライブSEMイメージングによる高効率TEM薄膜作製と、Gemini 4電子光学系による高解像度観察を実現
ZEISS、新型FIB-SEM「Crossbeam 750」を発表 ライブSEMイメージングによる高効率TEM薄膜作製と、Gemini 4電子光学系による高解像度観察を実現
ZEISSは新型FIB-SEM「Crossbeam 750」を発表しました。本装置は、Gemini 4電子光学系を搭載しており、極めて高い解像度での観察を可能にします。また、ライブSEMイメージング機能を備えていることが大きな特徴で、TEM(透過電子顕微鏡)用の薄膜試料作製プロセスをリアルタイムで確認しながら進めることができ、作業効率が大幅に向上します。高精度な加工と高画質な観察を両立させることで、材料科学や半導体解析などの分野における研究開発を強力に支援します。最新の光学系と効率的なワークフローにより、複雑なナノ構造の解析において優れたパフォーマンスを発揮する次世代の分析装置です。
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